简介:本实用新型涉及一种用于清洗通过立体光刻制造的物体的设备,所述物体粘附到载体平台,所述设备对于从所述物体的表面清洗残留的树脂有用,所述设备包括:(a)清洗容器;(b)储器;(c)排放管线;(d)将所述储器连接到所述清洗容器的填充管线;(e)物体振荡器;以及(f)升降机。本实用新型还涉及一种增材制造系统,所述增材制造系统包括:(a)载体平台;(b)立体光刻设备;(c)清洗设备。
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上传人:dahua1981
- 上传日期:2023-04-27