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用于EUV光刻术的隔膜.pdf

简介：公开了一种用于EUV光刻术的隔膜。在一种布置中,隔膜包括具有成以下顺序的层的叠层：第一覆盖层,包括第一金属的氧化物；包括化合物的基层,所述化合物包括第二金属和选自由Si、B、C和N组成的组的附加元素；和第二覆盖层,包括第三金属的氧化物,其中第一金属与第二金属不同,第三金属与第一金属相同或不同。
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