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光刻装置、器件制造方法以及相关的数据处理装置和计算机程序产品.pdf

简介：一种光刻处理,包括：将衬底(W)夹持(CL)到衬底支持件(WT)上；跨被夹持衬底测量(AS)标记的位置；以及使用测量的位置向被夹持衬底施加图案。基于跨衬底测量的位置中的弯曲诱发特性(402、404、406)的识别,在衬底的局部区域中向所施加图案的定位应用 详细>
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