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控制图案形成过程的方法、器件制造方法、用于光刻设备的控制系统以及光刻设备.pdf

简介：性能测量目标用于在处理多个衬底之后测量光刻过程的性能。在设定阶段,该方法通过参考图案形成过程的预期参数从多个候选标记类型中选择对准标记类型和对准选配方案。在使用图案形成过程曝光多个测试衬底之后,通过比较由参考技术测量的图案形 详细>
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