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控制光刻设备的方法和器件制造方法、用于光刻设备的控制系统及光刻设备.pdf

简介：在一种控制光刻设备的方法中,使用历史性能测量值(512)计算与光刻过程相关的过程模型(PM)。测量设置在当前衬底上的多个对准标记的当前位置(502)且使用所述当前位置计算与当前衬底相关的衬底模型。另外,使用(530)在处理先前衬底时所获得的历 详细>
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