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改良的立体光刻系统.pdf

简介：立体光刻系统包含发射装置和设置在所述发射装置上方的贮槽。所述贮槽具有第一光学透明底壁和第二光学透明底壁,且两者之间设置有间隙。存在远离所述贮槽延伸的线性平移台,并且载体平台可沿着所述线性平移台移动远离所述贮槽。在所述贮槽内在所述贮槽的底壁处还存在可湿性材料。流体冷却系统与设置在所述贮槽的所述第一光学透明底壁与所述贮槽的所述第二光学透明底壁之间的所述间隙流体连通。
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