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测量光刻工艺参数的方法和设备、衬底以及该方法中使用的图案化装置.pdf

简介：衬底具有通过光刻工艺形成在其上的第一目标结构和第二目标结构,光刻工艺包括至少两个光刻步骤。每个目标结构具有形成在单个材料层中的二维周期性结构,其中在第一目标结构中,在第二光刻步骤中限定的特征相对于在第一光刻步骤中限定的特征移 详细>
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