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EUV光刻用防护膜及其制造方法.pdf

简介：本发明公开了一种极紫外(EUV)光刻用防护膜。该防护膜可以包括：支撑层图案,其通过蚀刻支撑层而形成；防护膜层,其形成在所述支撑层图案上；和蚀刻停止层图案,其形成在所述支撑层图案与所述防护膜层之间,并且在蚀刻所述支撑层时通过对停止蚀刻的蚀刻停止层进行蚀刻而形成。因此,本发明提供了一种EUV光掩模用防护膜,其在具有最小厚度的同时保持了高的EUV曝光光线透过率,并且机械强度和热特性优异。
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