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一种用于光刻装置的套刻补偿系统及方法.pdf

简介：本发明公开一种用于光刻装置的套刻补偿系统,包括：一照明模块,用于提供一辐射束；一掩模台,用于承载一图案；一工件台,用于承载一待曝光重组晶圆并提供至少一个自由度的运动；一投影物镜,用于将该图案成像至该待曝光重组晶圆；一套刻误差测量及补偿系统,用于测量该待曝光重组晶圆上的芯片位置与图案成像位置的相对位置误差,计算获得一校正模型用于补偿该相对位置误差。本发明同时公开一种用于光刻装置的套刻补偿方法。
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