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光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜及图案形成方法.pdf

简介：提供碳浓度高、氧浓度低、耐热性较高、溶剂溶解性也比较高、能够适用湿式工艺的新型光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜及图案形成方法。一种下述通式(1)所示的化合物作为光刻用下层膜的应用,式(1)中,X各自独立地是氧原子或硫原子,R1 详细>
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