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用于在EUV光刻中监测焦点的方法.pdf

简介：本发明涉及一种使用包含具有辅助特征图案的EUV掩模来获得用于在EUV光刻中曝光光致抗蚀剂的最优焦点的方法。本发明也涉及一种具有用于在EUV光刻中监测焦点的特定焦点测试目标的EUV掩模,和一种通过设计特定焦点测试目标而制造该EUV掩模的方 详细>
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