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量测方法和设备、光刻系统和器件制造方法.pdf

简介：一种测量光刻过程的参数的方法及相关的检查设备被公开。所述方法包括：使用多个不同的照射条件来测量衬底上至少两个目标结构,所述目标结构具有有意的重叠偏置；对于每个目标结构获得表示总体不对称度的不对称度测量,所述总体不对称度包括由 详细>
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