简介:本发明的光刻用下层膜形成材料,其含有下述通式(1)所示的化合物。(式(1)中,X各自独立地是氧原子或硫原子,R~1是单键或碳原子数为1~30的2n价的烃基,该烃基可以具有环式烃基、双键、杂原子或碳原子数为6~30的芳香族基团,R~2各自独立地是碳原子数为1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳原子数为6~10的芳基、碳原子数为2~10的烯基或羟基,在此,R~2的至少一个是羟基,m各自独立地是1~4的整数,n是1~4的整数,p是0或1。)
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上传人:dahua1981
- 上传日期:2023-04-23