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光刻投影组件、用于处理基底的处理装置和处理基底的方法.pdf

简介：本发明涉及一种光刻投影组件,包括：至少两个装载锁闭装置,用于在第一环境与第二环境之间传送基底,第二环境具有比第一环境更低的压力；基底处理器包括：主要处于第二环境的处理室；光刻投影装置,包括投影室。处理室和投影室通过装载位置和卸载 详细>
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