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光刻装置和测量方法.pdf

简介：根据本发明一个实施例的一种(例如在包括用于支撑衬底的衬底台的光刻装置中)曝光衬底的方法包括,使用第一传感器和第二传感器来执行至少一个衬底的部分的第一和第二高度测量,基于测量值之差来产生并存储偏移误差地图；通过利用第一传感器执行高度测量,来产生并存储衬底部分(或具有与这部分相类似处理的另一衬底)的高度地图,并利用偏移误差地图来校正该高度地图；以及曝光衬底(或其它衬底)。
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