简介:一种光刻装置,其包括保持基底的基底台,参考结构以及测量基底台相对参考结构的位置的测量系统。该测量系统包括用于测量基底台相对中间结构的位置的第一测量系统,和用于测量中间结构相对参考结构的位置的第二测量系统。该中间结构与驱动机构连接或可与驱动机构连接,以驱动基底台。基底台和中间结构之间的间距以及中间结构和参考结构之间的间距可以很小,从而获得高度精确的位置测量。
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上传人:dahua1981
- 上传日期:2023-04-22