简介:本发明公开了一种投射对准标记组合及光刻装置的对准方法,通过采用高对比度且呈180°对称的对准标记组合进行粗精结合的掩模对准扫描,获得高对比度的对准辐射信息,用获得对准辐射信息和工件台及掩模的位置信息,逐级获得高精度的对准位置,建立曝光掩模图形相对工件台坐标系的空间位置。采用本发明的标记组合及其对准扫描方法,可提高对准精度和对准扫描效率。
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上传人:dahua1981
- 上传日期:2023-04-22