简介:公开了一种光刻装置,其包括配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统,配置成去除液体和气体混合物的出口,所述液体和气体混合物流过液体供给系统的液体限制结构和基底之间的间隙,配置成通过所述出口排出混合物的排空系统,该排空系统包括布置成把混合物中的液体和气体分开的分离罐和分离罐压力控制器,该分离罐压力控制器与分离罐的非液体填充区相连,并配置成使非液体填充区保持稳定的压力。
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上传人:dahua1981
- 上传日期:2023-04-21