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简介:一种光刻装置,包括:照明系统;支持构图器件的支持结构;衬底支架;投影系统;致动器。致动器包括:第一磁铁系统部件和第二磁铁系统部件;导电元件,设置该导电元件使其基于该导电元件所流过的电流和所述第一磁场及第二磁场之间的相互作用而产生力
简介:一种光刻装置,包括:照明系统;支持构图器件的支持结构;衬底支架;投影系统;致动器。致动器包括:第一磁铁系统部件和第二磁铁系统部件;导电元件,设置该导电元件使其基于该导电元件所流过的电流和所述第一磁场及第二磁场之间的相互作用而产生力,所述导电元件附着到所述第二装置部分且被插入在所述第一和第二磁铁系统部件之间;和磁性元件,该磁性元件基本上在所述第一和第二磁铁系统部件外侧部分之间延伸,设置该磁性元件使其把所述第二磁场的一部分从所述第一和第二磁铁系统部件之一引导到所述第一和第二磁铁系统部件中的另一个部件。导电元件和磁性元件之间的间距足够大,使得所述致动器的磁阻力小于所述致动器产生的最大力的1%。本发明还提供了一种致动器和一种器件制造方法。
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