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简介:光刻装置包括用于提供辐射光束的照射系统和支撑构图部件的支撑结构。所述构图部件用于将图案在其截面赋予给光束。光刻装置还包括用于保持基底的基底台和用于将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。所述装置具有用于支撑光刻装置中的
简介:光刻装置包括用于提供辐射光束的照射系统和支撑构图部件的支撑结构。所述构图部件用于将图案在其截面赋予给光束。光刻装置还包括用于保持基底的基底台和用于将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。所述装置具有用于支撑光刻装置中的对象如基底或构图部件的吸盘系统(100)。所述吸盘系统包括用于支撑对象的吸盘(120)、用于支撑吸盘的框架(110)以及用于相对于框架支撑吸盘的吸盘支撑结构(114)。所述吸盘支撑结构包括至少一个弯曲元件(130),该弯曲元件在至少一个自由度上是柔性的,并耦合到吸盘和框架。
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