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具有对准子系统的光刻装置和使用对准的器件制造方法.pdf

简介：本发明公开一种光刻装置,包括用于相对构图部件(MA)对准基底台(WT)上基底(W)的对准子系统(21)。该对准结构(10)包括可检测为捕获位置或检验位置的非周期特征(15),使用对准子系统(21)中的参考光栅(26)。非周期特征(15)可能会在对准子系统(21)的检测信号中产生相位效果,或者产生幅值效应。
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