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光刻装置及器件制造方法.pdf

简介：本发明公开一种使用浸液的光刻投影装置,所述浸液位于该投影系统的最后元件和基底W之间。公开多种用于保护该投影系统、基底台和液体保持系统的部件的方法。这些方法包括在该投影系统的最后元件(20)上设置保护层,以及在该部件的上游设置牺牲保护体。还公开了由CaF-(2)制成的由两个部件构成的最后光学元件。
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