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光刻图形的形成方法.pdf

简介：本发明是提供一种光刻图形的形成方法,包含：形成一第一材料层于一基底上,上述第一材料层实质上不含硅；形成一图形化的抗蚀剂层于上述第一材料层上,上述图形化的抗蚀剂层包含至少一抗蚀剂开口于其中；形成含硅的一第二材料层于上述图形化的抗蚀剂层上；以及以上述第二材料层为罩幕,形成一开口于上述第一材料层中。
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