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光刻设备和器件制造方法.pdf

简介：提供一种光刻设备,其使用单独可控元件阵列图案化辐射束。通过调整提供给单独可控元件的图案数来补偿工艺变化,使用该设备图案化的衬底的临界尺寸均匀性得到改善。
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