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自适应的光刻临界尺寸增强.pdf

简介：本发明提出了用于提高光刻系统中的CD均匀性的系统、装置和方法。该系统包括构造为曝光衬底的曝光装置、与该曝光装置和多个处理模块和装置可操作连接的流水线装置。该系统还包括测量装置,所述测量装置被构造成测量被曝光和处理的衬底的属性,并 详细>
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