简介:利用一种系统和方法对基底构图。利用可单独控制的元件阵列对从辐射系统接收的投射光束进行构图。利用第一聚焦元件阵列的每个元件将一部分投射光束直接引导至一个可单独控制的元件上,并聚集从那里反射的辐射。利用投影系统将第一聚焦元件阵列的像投射到第二聚焦元件阵列上,以使得从一个可单独控制的元件反射的辐射经由第一聚焦元件阵列中的一个聚焦元件和投影系统投射到第二阵列中的一个聚焦元件上,第二阵列中的该元件将该辐射聚焦到基底上的一点。
- 所需积分:50 分
- 所需积分:50 分0分
- 下载次数:0 次
- 获取积分:页面上方
- 资料大小: 1026 KB
-
上传人:dahua1981
- 上传日期:2023-04-21