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用于构图工件的浸式光刻系统.pdf

简介：本发明涉及用于构图工件的浸式光刻系统,所述工件布置在像平面且至少部分地被覆盖以对电磁辐射敏感的层。所述系统包括：源,其发射电磁辐射到物平面上；掩模,其适于在所述物平面处接收和调制所述电磁辐射,并朝向所述工件传递所述电磁辐射；以及浸入媒质,其接触所述光刻系统的最终透镜的至少一部分以及部分所述工件,其中所述接触的区域通过毛细力受到限制。本发明还涉及用于构图工件的方法以及这样的浸式透镜。
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