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用于湿浸式光刻的方法和设备.pdf

简介：提供一种用于保持晶片的设备和一种用于湿浸式光刻的方法。该设备包括晶片夹具,该夹具具有中心圆形真空压盘、外部区域和在真空压盘中心上的圆形凹槽,真空压盘的顶表面凹进在外部区域的顶表面之下,凹槽的底表面凹进在真空压盘的顶表面之下；在凹槽的底表面中的一个或多个吸入口；和位于凹槽内的中空环形可膨胀和收缩的囊状物,当囊状物处于膨胀状态时,在晶片处于真空压盘上时,囊状物的外表面与晶片的整个边缘直接物理接触。
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