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去除光刻胶和蚀刻残留物的方法.pdf

简介：提供一种用于等离子体灰化(120)的方法,用于去除在前面介电层(104)等离子体蚀刻期间形成的光刻胶残余(106)以及蚀刻剩余物(110)。该灰化方法使用包含含氢气体的两步等离子体处理,其中在第一清洁步骤(120)对基底施加低或零偏置,从而从基底去 详细>
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