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防止或者降低浸没式投影设备及浸没式光刻设备的污染的方法.pdf

简介：本发明公开了一种防止或者降低浸没式投影设备的污染的方法。所述设备包括至少一个浸没空间，当所述设备将辐射束投射到衬底上时，用液体至少部分地填充所述浸没空间。所述方法包括在利用所述设备将辐射束投射到衬底上之前用漂洗液漂洗至少部分浸没空间。
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