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光刻装置和器件制造方法.pdf

简介：本发明涉及一种光刻装置，其包括用于保持基底的基底台，用于将带图案的光束投影到基底靶部的投影系统；和配置成至少在三个自由度上测量所述基底台的位置的位移测量系统。所述位移测量系统包括配置成在第一方向测量基底台的位置的第一x－传感器 详细>
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