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选择栅格模型以修正工艺配方的方法及其光刻组件.pdf

简介：本发明涉及一种选择栅格模型以在光刻设备中针对栅格变形来修正工艺配方的方法。首先，提供一组栅格模型。随后，通过对多个衬底上的多个对准标记执行对准测量来获得对准数据。对于每个栅格模型，检查对准数据是否适于求解该栅格模型。如果是的话， 详细>
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