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光刻胶组合物和使用方法.pdf

简介：本发明公开了具有优异的光平版印刷性能的光刻胶组合物和具有优异的耐溶剂性，在电沉积金属过程中具有优异的对在镀覆的耐性，和具有优异的抗蚀剂剥离特性的硬化抗蚀剂膜。这些根据本发明的光刻胶组合物非常适用于制造MEMS和微电机设备的场合。根据本发明的这些光刻胶组合物包含一种或多种环氧化物取代的多羧酸树脂组分(A)，一种或多种光酸生成剂化合物(B)，和一种或多种溶剂(C)。
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