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曝光掩模以及使用其的半导体器件的制造方法.pdf

简介：本发明提供能够均匀地形成半透射部分的光致抗蚀剂层的膜厚的曝光掩模，而且提供半导体器件的制造方法，其通过使用该曝光掩模来减少在制造TFT衬底时所需的光蚀刻步骤的数目(掩模数量)。本发明使用一种曝光掩模，其包括透射部分、遮光部分、以及 详细>
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