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光刻装置的浸没损坏控制.pdf

简介：一种光刻装置，包括：保持基底的基底台，测量基底台的位置量的基底台位置测量系统，将带图案的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统，将浸没液体提供到投影系统的下游透镜和基底之间的空间的流体供给系统，和测量流体供给系统的位置量的流体供给 详细>
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