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用于制造半导体器件的相移掩膜.pdf

简介：提供一种相移掩膜，其中包括：形成在透明基片上的相移膜；以及形成在该透明基片的划线区域中的遮光膜的相移掩膜，其中由所述划线区域所包围的区域包括要形成集成电路部分的集成电路区域，以及要形成在所述集成电路部分的外围的外围边缘部分的外围边缘区域，以及所述遮光膜至少形成在一部分所述外围边缘区域和所述集成电路区域中。该相移掩膜用于制造具有防潮性能的半导体器件。
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