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光刻设备和生成掩模图案的方法以及该设备制造方法.pdf

简介：通过用二维校正核心或两个一维校正核心旋绕器件特征将灰度级光学接近式校正器件特征添加到一掩模图案以便生成灰度级OPC特征。该结果图案可以用在具有适于生成三个或更多强度等级的可编程构图装置的投影光刻设备中。模拟由图案产生的空间图像、比较对希望的图案的模拟以及调整OPC特征的迭代过程，可以被用于生成投影的最佳图案。
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