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用偏振光的光刻印刷.pdf

简介：本发明提供用偏振光改进光刻印刷的系统和方法。在本发明的实施例中，用偏振光(径向或切向偏振的)照明相移掩模(PSM)并产生曝光光束。然后用曝光光束中的光，使负的光致抗蚀剂层曝光。可以用无隔的PSM。在本发明另外的实施例中，用径向偏振光照明掩模，并产生曝光光束。然后用曝光光束中的光，使正的光致抗蚀剂层曝光。掩模可以是衰减的PSM或二进制掩模。即使在低k应用中在各种孔距上印刷接触孔，也能获得非常高的像质量。
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