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光刻设备和设备制造方法.pdf

简介：一种光刻设备和方法，其中使用构图系统来给投射光束在其横截面的图案。通过投射系统把所述光束从照明系统引导在衬底支架上支持的衬底表面的目标部分上。所述目标部分具有相对于所述衬底板的预先确定的空间特征，其适于在所述衬底表面上的所需要曝光的图案。测量所述衬底的温度，并且计算所述衬底对所测量温度的尺寸响应。调整所述目标部分相对于所述衬底板的空间特征以便补偿所计算的尺寸响应。
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