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光刻装置及器件制造方法.pdf

简介:一种与用以将来自辐射系统的辐射分配到两个或多个独立可控单元阵列的辐射分配系统一同使用的探测器、反馈及补偿系统,各独立可控单元阵列用来使射束图案化,该射束之后被投射到基片上。该探测器确定该辐射分配系统内的辐射损失,并将信息反馈到补偿系统,该补偿系统补偿该损失并保持投射到基片上的辐射均匀。
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