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衬底曝光方法和光刻投影设备.pdf

简介：公开了一种把掩模(MA)图案的图像曝光到涂有抗蚀剂层的衬底(W)的方法，其中，在开始曝光后及曝光完成前，控制器(100)通过在曝光时改变衬底承载台位置(WT)而在抗蚀剂层的图像中引入受控数量的对比度损失。对比度损失影响光刻投影设备分辨率的间距依赖性，因而把对它的控制用于匹配不同光刻投影设备之间分辨率的间距依赖性。
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