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光刻投影装置和利用光刻投影装置制造器件的方法.pdf

简介：本发明公开一种光刻投影装置和使用所述装置制造器件的方法，其中该装置包括在多个点测量晶片高度的水平传感器。该高度信息被送到利用从水平传感器的输入产生测量高度图的处理器。根据本发明，处理器还使用测量高度图来计算平均管芯构形，以便产生所述基底的所述表面的原始高度图，并使用所述原始高度图检测所述基底的所述表面上的任何聚焦疵点。通过减去该平均管芯构形，聚焦疵点能比原来定位的更精确。
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