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光刻投射装置及用于所述装置中的粒子屏障.pdf

简介：本发明是一种具有箔收集器、用于EUV光刻的光刻投射装置。该箔收集器在EUV源后形成一个开放的结构，使EUV辐射不受阻碍地通过。该箔收集器构造为可以绕光轴旋转。通过旋转箔收集器，横切EUV辐射传播方向的脉冲可以传输到EUV束中的碎片上。这些碎片将不能通过箔收集器。这样，减少了箔收集器下游光学元件上的碎片数量。
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