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半导体集成电路及其制造工艺.pdf

简介：一种半导体集成电路器件包括：n沟道MOS晶体管，形成在硅衬底的第一器件区上；及p沟道MOS晶体管，形成在硅衬底的第二器件区上，其中n沟道MOS晶体管包括第一栅电极，该第一栅电极承载形成在其各个侧壁表面上的一对第一侧壁绝缘膜，p沟道MOS晶体管 详细>
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