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光刻胶组合物和形成光刻胶图像的方法.pdf

简介：本发明涉及对深紫外中的辐射敏感的光刻胶组合物，特别是在100－200纳米(nm)范围中敏感的正性光刻胶组合物。光刻胶组合物包括a)不溶于碱性水溶液和包括至少一个酸不稳定基团的聚合物，和此外其中聚合物基本是非酚类的；b)在辐射时能够产生酸的化合物；和c)降低电子和离子对光刻胶图像影响的添加剂。
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