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光刻法用洗涤液和基板的处理方法.pdf

简介：本发明提供一种用于剥离、溶解膜厚为10～150μm的光致抗蚀剂图案的洗涤液，含有下述的成分(a)、(b)和(c)：(a)0.5～15质量％的通式(I)表示的季铵氢氧化物(氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵等)；(b)65～97质量％的水溶性有机溶剂(二甲亚砜、或二甲亚砜与N－甲基－2－吡咯烷酮、环丁砜等的混合溶剂)；(c)0.5～30质量％的水。本发明还提供使用该洗涤液处理基板的方法。
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