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光刻用掩模护层.pdf

简介：本发明提供一种具有实用性的光刻用掩模护层，其对于例如200至300纳米的远紫外线，尤其是200纳米以下的真空紫外线的短波长的光具有高透光率及耐旋光性。光刻用掩模护层是至少具有掩模护层膜、张贴该掩模护层膜的护层框，以及设于该掩模层框的另一端面具有粘接层的光刻用掩模护层，其特征为：所述掩模护层膜是由氟掺杂氧化硅及含氟树脂的复合构造制成。
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