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光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法.pdf

简介：本发明提供一种光刻胶用剥离液，其中含有(a)含羧基的酸性化合物、(b)烷醇胺类和特定的季铵氢氧化物中选出的至少1种碱性化合物(例如单乙醇胺、氢氧化四烷基铵等)、(c)含硫防腐蚀剂、以及(d)水，且pH值为3.5～5.5。另外，本发明还提供使用该剥离液的光刻胶剥离方法。本发明提供的光刻胶用剥离液，其对金属布线、特别是Cu布线的防腐蚀性优良，不会损坏低介电体层和有机SOG层等层间膜，而且光刻胶膜和灰化处理后的残渣物的剥离性优良。
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