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具有腈和脂环族离去基团的共聚物和包含该共聚物的光刻胶组物.pdf

简介：本发明包括聚合物,和包含作为树脂粘合剂组分的聚合物的光刻胶组合物。本发明的光刻胶包括在短波长例如低于200nm、尤其是193nm时能够有效成象的化学放大的正性作用抗蚀剂。本发明的聚合物含有特定摩尔比的腈和光致酸不稳定基团,所述基团具有一脂环族部分,特别是桥连二环基团或三环基团或其它笼形基团。本发明的聚合物和抗蚀剂能够具有显著的耐等离子蚀刻性。
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