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在半导体晶片上形成低介电常数层的方法.pdf

简介：公开了一种在半导体制备过程中用于形成低k介电膜的方法和系统。首先,在半导体晶片上沉积掺碳的硅氧化物膜。然后用诸如紫外能量的光能来矫正沉积的膜。在一个实施例中,至少30%的光能其频率比可见光的频率高,用于晶片上的光能不会明显地使之加热。适于形成和矫正介电膜的一套装置包括:耦合到有机硅烷源的第一室,向容纳其中的晶片施加光能的第二室,还包括自动部件,其控制晶片在一室和二室之间运动。
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